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一国企已开始量产自主研发的DUV光刻机制造设备,长鑫存储或成为首批客户之一

发布日期:2026-07-27 23:20 阅读:
穗牌官网报道,7月27日,据 The Information 援引知情人士消息,位于上海的某国资背景企业已开始量产自主研发的 DUV(深紫外)光刻机制造设备,这是中国半导体产业推进国产化替代的重要进展。
据悉,该企业计划于 2026 年生产约 5 台 DUV 光刻机,并在 2027 年扩大至约 20 台。虽然与荷兰光刻机巨头 ASML 的产能仍存在差距(ASML 去年交付 131 套浸没式 DUV 光刻系统),但国产 DUV 设备突破量产意味着中国芯片制造供应链进一步向自主可控迈进。
消息人士称,这批国产 DUV 光刻机计划交付给中国主要芯片制造商,包括中芯国际、华虹半导体以及存储芯片厂商长鑫存储。
其中,长鑫存储作为中国 DRAM 产业代表企业,预计将成为国产先进半导体制造设备的重要应用方。若国产 DUV 设备能够在长鑫存储等厂商产线中实现稳定运行,将进一步降低中国存储芯片产业对海外关键设备的依赖。
截至发文,御渡半导体、中芯国际、华虹和长鑫行储均未回应置评。

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